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Quinn Luxury Apartment Kileleshwa

Appartment
Preis nicht verfügbar
Mehr Informationen
Die Unterkunft Quinn Luxury Apartment Kileleshwa verfügt über Übernachtungsmöglichkeiten mit einer Veranda / Patio und ist in Nairobi gelegen. Die klimatisierte Unterkunft ist 4,4 km von Nairobi National Museum entfernt und die Gäste profitieren von einem Privatparkplatz vor Ort verfügbar und kostenlosem WLAN.
Diese Ferienwohnung ist versehen mit 2 Schlafzimmern, 2 Badezimmern, Bettwäsche. Handtüchern, einem TV, einer voll ausgestatteten Küche und einem Balkon mit Stadtblick.
Die Gäste können in der Unterkunft Quinn Luxury Apartment Kileleshwa einen Außenpool nutzen.
Internationales Kongresszentrum Kenyatta liegt 5,7 km von der Unterkunft Quinn Luxury Apartment Kileleshwa entfernt, während Shifteye Gallery 2,5 km entfernt ist. Der nächstgelegene Flughafen ist der Flughafen Nairobi Wilson International, 8 km von der Unterkunft Quinn Luxury Apartment Kileleshwa entfernt.
Die Unterkunft Quinn Luxury Apartment Kileleshwa verfügt über Übernachtungsmöglichkeiten mit einer Veranda / Patio und ist in Nairobi gelegen. Die klimatisierte Unterkunft ist 4,4 km von Nairobi National Museum entfernt und die Gäste profitieren von einem Privatparkplatz vor Ort verfügbar und kostenlosem WLAN.
Diese Ferienwohnung ist versehen mit 2 Schlafzimmern, 2 Badezimmern, Bettwäsche. Handtüchern, einem TV, einer voll ausgestatteten Küche und einem Balkon mit Stadtblick.
Die Gäste können in der Unterkunft Quinn Luxury Apartment Kileleshwa einen Außenpool nutzen.
Internationales Kongresszentrum Kenyatta liegt 5,7 km von der Unterkunft Quinn Luxury Apartment Kileleshwa entfernt, während Shifteye Gallery 2,5 km entfernt ist. Der nächstgelegene Flughafen ist der Flughafen Nairobi Wilson International, 8 km von der Unterkunft Quinn Luxury Apartment Kileleshwa entfernt.
Vorteile
Haustiere erlaubt
lokale WiFi-Verbindung
Kostenlose Parkplätze
Parkplätze
Parkplatz vor Ort
Privater Parkplatz
Pool
Ort
Siaya Park Apartments, Kileleshwa00100 Nairobi
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Aufenthaltsdaten
Verfügbarkeit mit
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